Sadestumine
Hankige teadmisi ja kiirendage arendusprotsessi.
Advanced Energy pakub toiteallika ja juhtimislahendusi kriitiliste õhukese kile sadestamise rakenduste ja seadmete geomeetria jaoks.Vahvlite töötlemise probleemide lahendamiseks võimaldavad meie täppisvõimsuse muundamise lahendused optimeerida võimsuse täpsust, täpsust, kiirust ja protsessi korratavust.
Pakume laia valikut RF-sagedusi, alalisvoolu toitesüsteeme, kohandatud väljundvõimsuse tasemeid, sobitustehnoloogiaid ja kiudoptilise temperatuuri jälgimise lahendusi, mis võimaldavad teil protsessi plasmat paremini juhtida.Integreerime ka Fast DAQ™-i ning meie andmete hankimise ja juurdepääsetavuse komplekti, et pakkuda protsessist ülevaadet ja kiirendada arendusprotsessi.
Lisateavet meie pooljuhtide tootmisprotsesside kohta leiate oma vajadustele vastava lahenduse leidmiseks.
Sinu väljakutse
Alates kiledest, mida kasutatakse integraallülituse mõõtmete kujundamisel kuni juhtivate ja isoleerivate kiledeni (elektristruktuurid) kuni metallkiledeni (vastastikune ühendamine), nõuavad teie sadestamise protsessid aatomitaseme juhtimist – mitte ainult iga funktsiooni, vaid kogu vahvli ulatuses.
Peale struktuuri enda peavad teie hoiule pandud kiled olema kvaliteetsed.Neil peab olema soovitud teraline struktuur, ühtlus ja konformaalne paksus ning need peavad olema tühimikevabad – ja see on lisaks nõutavatele mehaanilistele pingetele (surve- ja tõmbejõud) ja elektrilistele omadustele.
Keerulisus ainult kasvab.Litograafia piirangute (alla 1X nm sõlmed) kõrvaldamiseks nõuavad isejoonduvad topelt- ja neljakordse mustri tehnikad teie sadestamisprotsessis, et luua ja reprodutseerida muster igal vahvlil.
Meie lahendus
Kõige kriitilisemate sadestusrakenduste ja seadmete geomeetria juurutamisel vajate usaldusväärset turuliidrit.
Advanced Energy RF-toiteedastus ja kiire sobitustehnoloogia võimaldavad teil kohandada ja optimeerida kõigi täiustatud PECVD- ja PEALD-sadestamise protsesside jaoks vajalikku võimsuse täpsust, täpsust, kiirust ja protsessi korratavust.
Kasutage meie alalisvoolu generaatori tehnoloogiat, et täpsustada oma konfigureeritavat kaarreaktsiooni, võimsuse täpsust, kiirust ja protsessi korratavust, mis on nõutavad PVD (pihustamine) ja ECD sadestamise protsessid.
Kasu
● Suurenenud plasma stabiilsus ja protsessi korratavus suurendab saagist
● Täpne RF ja DC edastamine koos täieliku digitaalse juhtimisega aitab optimeerida protsessi tõhusust
● Kiire reageerimine plasmamuutustele ja kaarehaldus
● Mitmetasandiline pulseerimine koos adaptiivse sageduse häälestamisega parandab söövituskiiruse selektiivsust
● Saadaval ülemaailmne tugi, et tagada maksimaalne tööaeg ja toote jõudlus