23. novembril avaldas Sichuani provintsi valitsuse ametlik veebisait Sichuani provintsi rahvavalitsuse otsuse 2020. aasta Sichuani patendiauhinna andmise kohta. Nende hulgas võitis Injeti taotlusprojekt „Voolutuvastusahel, tagasiside juhtimisahel ja toiteallikas virna juhtimisega toiteallikale“ 2020. aastal Sichuani patendiauhinna kolmanda koha.
Sichuani patendiauhind on Sichuani provintsi patendi rakendamise ja industrialiseerimise auhind, mille asutas Sichuani provintsi rahvavalitsus. See valitakse välja kord aastas, et pakkuda toetusi ja stiimuleid Sichuani provintsi halduspiirkonna ettevõtetele ja asutustele, kes on saavutanud märkimisväärset majanduslikku ja sotsiaalset kasu ning häid arenguväljavaateid patentide rakendamisel ja industrialiseerimisel, et kiirendada innovatsioonist tulenevate uute eeliste arendamist ja edendada juhtiva intellektuaalomandi provintsi ülesehitamist.
„Innovatsioon on esimene jõud, mis juhib arengut“. Injet nõuab tehnoloogilise innovatsiooni kasutamist ettevõtte arengu allikana. Innovatiivse mõtlemise ja juhtiva tehnoloogia abil on Injet iseseisvalt välja töötanud hulga tööstuslikke energiatooteid ja teinud jõupingutusi tööstusliku energia lokaliseerimise edendamiseks. Lisaks on ta põhjalikult rakendanud innovatsioonisaavutuste intellektuaalomandi õigusi. Praegu on tal 122 kehtivat volitatud patenti (sealhulgas 36 leiutise patenti) ja 14 arvutitarkvara autoriõigust. Ettevõte on järjestikku võitnud „riikliku kõrgtehnoloogiaettevõtte“, „riikliku intellektuaalomandi eelisega ettevõtte“, „riikliku spetsialiseerunud ja uue“ väikehiiglase „ettevõtte“ jne tunnustusi.
Sichuani patendiauhinna kolmanda koha võitmine seekord ei peegelda mitte ainult ettevõtte teadusliku ja tehnoloogilise innovatsiooni ning intellektuaalomandi kaitse rakendamist, vaid ka provintsivalitsuse kinnitust ja toetust ettevõtte rõhuasetusele patentide loomisel, taotlemisel ja kaitsmisel ning patenteeritud tehnoloogia parema praktiliseks tootlikkuseks muutmise edendamisel. Injet teeb püsivaid pingutusi, järgib iseseisvat innovatsiooni, parandab intellektuaalomandi loomise ja rakendamise taset ning edendab patentide rakendamise ja industrialiseerimise protsessi.
Postituse aeg: 27. mai 2022